 Мир электроники
 В. Киреев, А. Столяров
 Технологии микроэлектроники. Химическое осаждение из газовой фазы
 Техносфера Москва 2006

 В.Ю. Киреев, А.А. Столяров
 Технологии микроэлектроники. Химическое осаждение из газовой фазы
 Москва:
 Техносфера, 2006. - 192 с.
 ISBN 5-94836-039-3
 Проведена классификация процессов и оборудования химического осаждения из газовой фазы (ХОГФ), используемых в технологии производства интегральных микросхем (ИМС), и показаны тенденции их развития. Приведены основные характеристики элементов микроструктур ИМС, получаемых в процессах ХОГФ, а также технологические характеристики самих процессов и используемых реагентов. Рассмотрены параметры оборудования для реализации процессов ХОГФ и проведен анализ его возможностей, достоинств и недостатков при осаждении функциональных слоев микросхем. Приведены основные электрофизические характеристики осаждаемых пленок.
 Для инженеров-технологов и научных работников, использующих в своей практической работе химическое осаждение пленок из газовой фазы. Книга может быть полезна также студентам старших курсов, аспирантам и преподавателям вузов.

 КРАТКОЕ СОДЕРЖАНИЕ:
 Предисловие (8).
 Список используемых сокращений (19).
 Введение (24).
 Глава 1. Классификация процессов ХОГФ функциональных слоев ИМС (25).
 Глава 2. Характеристики структуры до и после операции ХОГФ функционального слоя (41).
 Глава 3. Технологические характеристики процессов ХОГФ функциональных слоев ИМС (46).
 Глава 4. Состав и параметры оборудования ХОГФ функциональных слоев ИМС (49).
 Глава 5. Классификация оборудования ХОГФ функциональных слоев ИМС (55).
 Глава 6. Механизмы протекания процессов ХОГФ (74).
 Глава 7. Функциональные слои ИМС, осаждаемые в процессах ХОГФ (106).
 Заключение (186).
 Литература (188).
 Сведения об авторах (191).

 Сведения об авторах
 Киреев Валерий Юрьевич, 1949 года рождения, закончил в 1972 году Московский институт электронной техники по специальности «электроника и автоматика», с 1976 года - кандидат технических наук, с 1981 года имеет звание старшего научного сотрудника, с 1992 года - доктор технических наук. Автор трех монографий, свыше сотни научных статей и более пятидесяти авторских свидетельств и патентов.
 Основная сфера интересов: процессы, технология, оборудование газо-плазменного травления, очистки, обработки и осаждения функциональных слоев микроэлектронных приборов.
 В настоящее время В.Ю. Киреев занимает должность ведущего научного сотрудника НИИ Системных Исследований Российской Академии Наук.
 Столяров Александр Александрович, 1979 года рождения, закончил в 2001 году Московский институт электроники и математики по специальности «электроника и микроэлектроника», с 2003 года инженер 1-ой категории. Разработчик комплекса процессов химического осаждения диэлектрических слоев для систем изоляции микросхем с субмикронными размерами элементов, автор трех научных статей и ряда научных методик.
 Основная сфера интересов: процессы химического осаждения материалов из газовой фазы в технологии производства интегральных микросхем.
 В настоящее время А.А. Столяров занимает должность ведущего инженера-технолога в отделе разработки технологических процессов НИИ Системных Исследований Российской Академии Наук.

 Киреев Валерий Юрьевич, Столяров Александр Александрович
 Технологии микроэлектроники. Химическое осаждение из газовой фазы